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说明

本课程是张曙丰在2012年左右的自旋电子学课程,可以查看网址
主要讲述了在金属磁性材料中的基本知识!
简单目录:
1-5集是磁学简单概念和相互作用。
6-10集是磁动力学。
11-18集是几个subject。
19-21集是具体应用。

::1

顺磁性:

随着时间的演变,材料磁性始终保持无序。
金属导电的电子顺磁性称为泡利顺磁性。

泡利顺磁性推导

(来源:铁磁学上册P56)
在相空间中,每个体积为h3的相格只能有两个电子。单位体积中电子数:
n=2×43πPF3/h3=8π3h3(2mEF)3/2=N(E)dE
其中N(E)=4πh3(2m)3/2E1/2,为电子按能量的分布,称为态密度。在H=0,T=0KN+=N

当存在外磁场时时,磁场引起的能量变化为μH,因此只有费米面附近少量的电子才参与转移。
δN+=12NμBH
δN=12NμBH
所以相应的磁化强度应为:
M=(δN+δN)μB=N(EF)μB2H
所以顺磁磁化率为χ=12mμB2h2(π32/3n1/3)

spin glass

主要体现在冻结上,依然是磁有序,但是不是所有的磁矩都有规律排列,微观看依旧是随机的,但是宏观有净磁矩。并且不随时间改变。有冻结温度Tf

超顺磁

随时间整体改变磁矩方向。

一般不考虑轨道角动量原因

对于轨道波函数的解:Y2,1Y2,1总是在一起的,只能在小的范围内break掉。

海森堡模型

i,jSiSj
海森堡交换作用并不是磁偶极子相互作用。它的来源是电子的相互作用,库仑相互作用进一步来源于泡利不相容原理。
交换两个电子后,他们的波函数相反,这意味着,当轨道部分对称时,自旋部分必须反对称。当自旋部分对称时,轨道部分必须反对称。
由于单重态和三重态的存在会导致 overlap Coulomb integral
如果是相同的自旋,波函数如果想要在一起库仑相互作用就会增强。如果是相反的自旋,波函数要分开,库仑相互作用减弱。在固体里面原子靠得近,作用力很强!
假设哈密顿量
H=(E1E2)S22+E0JSiSj
考虑J的大小,当晶格常数比较大的时候,电子的库仑排斥也会见效,J减小。当晶格常数比较小的时候,电子间库仑相互作用比较强,J比较大。
还有各向异性的模型,Ising model这个主要是平面内各向同性,z方向各向异性。或者z方向加强磁场,能量比J还要大。

平均场理论

M(T)=gSμBBs(gM(T)/KBT)

其中
Bs(x)是布里渊函数。

自旋波理论

M(T)=M0Sknk
nk=1eε1
ε=Ja2k2+gμBH

::2
在低温时使用自旋波理论,高温时使用平均场理论。
自旋波理论可以解释为什么有分数的μB.
铁磁矩
μ=2.2μB
Co磁矩
μ=1.6μB
Ni磁矩
μ=0.6μB

自由电子模型

Ekn53+n53
EexUn↓↑
这里有点疑问?为什么动能正比于n53+n53

stoner model of ferromagnetism

Etotal=Ek+Eex=A(n53+(nn53))+Un(nn)

铁磁性条件:一阶偏导为0,二阶偏导大于0.得到
N(εF)U>1

N为费米面态密度,U为库仑积分。

homework1

利用stoner model 计算二维的临界条件。
二维铁磁性定理:
Mermin-Wagner定理,利用海森堡模型在二维材料中不存在长程磁有序。 这里主要是考虑各向同性,如果是各向异性在二位材料可以产生磁性。

参考文献:
Mermin, N. D., & Wagner, H. (1966). Absence of ferromagnetism or antiferromagnetism in one-or two-dimensional isotropic Heisenberg models. Physical Review Letters, 17(22), 1133.

::3

磁相互作用

自旋电子学主要研究室温下的现象,这个时候单纯的量子效应较弱,这个时候主要考虑经典(半经典)的效应。

交换能

A:交换常数。
H=Ji,jSiSj=JdxM(x)(M(x+1)+M(xa))

假设M(x)随x是缓慢变化的。 假设模不变。
M(x+a)=M(x)+aM(x)x+12a2M(x)22x
M(xa)=M(x)aM(x)x+12a2M(x)22x
M(x+a)+M(xa)=Const+a2M(x)22x

E=Ja2M2dxM(x)M(x)22x

E=dxM(x)Heff

Heff=Ja2M2M(x)22x=AM(x)22x

Heff=A2M

E=A2M22M

这里使用到了分步积分。 xMMx=(Mx)2+MM22x=12M2x=0

形状各向异性 退磁能

Ed=HM

Hd=NdM

薄膜材料:

面内形状各向异性:Hd=4πM
Hdz=4πMz=4πMscos(θ)
Ed=2πMs2cos(θ)2

体效应

退磁能Ed=Ms2ab2
畴壁能Ew=σwab
临界大小 b=σ/M2

磁滞回线

矫顽力较小:软磁
矫顽力(coercivity)大:硬磁。

stoner - Wohlfarth model

E=HMcos(θ)Ksin(φθ)2
一阶偏导为0,二阶偏导大于0。
ϕ为易轴和磁场H的方向。θ为M和H的方向夹角。
H的方向为z轴方向。
jump:一阶导数为0,二阶导数为0 并且M=Mscosθ
Eθ=HMsinθKsin2(ϕθ)=0
2Eθ2=HMcosθ+2Kcos2(ϕθ)=0
由于Ms是常数,所以我们可以查看cosθ与H的关系。例如当ϕ=0时,从一阶导为0,二阶导大于0可以得到θ=0π,这样,我们可以得到最基础的磁滞回线版本。它的跳跃发生在二阶导为0处因此可以得到矫顽力的大小。
注意这里不要随便约去sinθ,cosθ,因为这些变量可能为0.
image

homework2

计算磁滞回线φ=π4,π3

::4,5
Asteriod :第一代MRAM
E=MsHacosθMsHbsinθ+Ksin2θ
临界条件:一阶偏导,二阶偏导为0,解得:
Ha=2KMscos2θ
Hb=2KMssin2θ
于是有:
Ha2+Hb2=(2KMs)2,称为磁翻转条件。

RKKY

中间通过费米海为媒介进行相互作用的传播。

此时的哈密顿量为:
Hint=JS1

homework4

在磁性材料中掺杂稀磁半导体,在二维情况下RKKY更强!

::6

畴壁能

畴壁能是交换能和各向异性能交换的结果。总能量:
$E = E_{ex} + E_{an} = A\frac{\pi2}{2L2}L + \frac{K}{2}L $
取总能最小
Ew=πAK
Lw=πAK

neel壁与bloch壁

对于薄膜而言,在畴壁中间,neel壁中磁化方向是在膜内。bloch垂直于薄膜。
薄膜越薄neel壁能量越低,两种畴壁的交叉点大致为30-50nm。

交换偏置

对于反铁磁加磁场,这个时候相同方向能量降低,相反方向能量升高,总能量不变,所以对反铁磁没有影响!
对于铁磁很容易就会转过去。

磁动力学

LLG方程
dMdt=γHeff×M+αMsM×dMdt
dMdt=γHeff×MαγMsM×(M×Heff)
对于进动项:
dMdt=γHeff×M
对于阻尼项:
dEdt=Heff×dMdt=γα1+α2|M×Heff|2
阻尼项一直小于0,所以逐渐减慢。

::7

LLG方程的性质

第一,M的模不变。证明:可以在LLG方程两边同时×M可以得到0,所以M的模不变。
第二,平衡位置一定是M与H方向一致。
第三,频率在GHz。

共振频率与共振宽度

通过共振频率和共振宽度可以计算出LLG方程中的常数系数。
施加一个带有微小扰动的外加磁场
H=H0ez+(hxex+hyey)eiwt
此时磁化矢量M为:
M=Msez+(δmxex+δmyey)eiwt
δmz=δmx2+δmy2=0
δmy=ahx+bhyw2wr2+iΓ
δmx=bhx+ahyw2wr2+iΓ
其中a=γMs(1+α)1(γH0+iαw),b=γMs(1+α)1(iαw)
所以共振频率为:
wr=γH01+α2
共振宽度为:
Γ=2αwwr

自旋输运

Drude model

j=σE,σ=ne2τm

Hall Effect

F=ev×B,j=nev,E=F/e
所以有:
E=1nej×B 可以测量霍尔系数来测量n
但是在磁性材料中,例如Fe,Co.可以得到Eh.=ρHj×M
其中ρH>>1ne 这里是“反常霍尔效应”?,原来一直用散射理论解释,现在也开始用berry phase来解释。
这里根本原因是由于SOC引起的。

spin hall current

主要是非磁性材料,Ta,Pt,Au,自旋霍尔角在0.1左右。在半导体材料可以使用光学方法测量,但是在金属材料无法测到。
电流为:jσ=cE+chσ×E,tan(θH)=chc

::8

incerse spin hall

自旋流产生逆电荷流。非磁性材料。
je=chcσ×je
为什么SOC能产生垂直方向的电流?
H=p2m+ζsoc(r×p)σ
<v>=<1i[r,H]>=<p>m+<ζsoc(σ×r)>

Anistropic Magnetoresistance(AMR) 各向异性磁阻

R(θ)=R+(RR)cosθ
一般有:
RRR2%
AMR的来源可以使用唯象理论解释。
当电流方向和磁场方向相同时,这个时候电子运动轨道于电流运动方向垂直,散射面积更大,所以电阻较大。
当电流方向和磁场方向垂直时,此时电子运行轨道平行于电流运动方向,散射面积小,所以电阻小。
image

planer Hall Effect 平面霍尔效应

image

实际上平面霍尔效应并不是真正的霍尔效应而是AMR效应。
通过AMR效应进行计算:
j=jxcosθ+jysinθ=σ(Eycosθ+Exsinθ)
j=jxsinθ+jycosθ=σ(Eysinθ+Excosθ)
so, 在实际测量中,jy=0
Ey=(ρρ)jxsinθcosθ
我们可以看到当θ=π4时,测量信号取最大值,当θ=0π2时取0.所以这个比值会很大,但是这并不是hall effect引起的而是AMR。

::9

玻尔兹曼统计

描述这个粒子使用了量子方法。这里主要是说明了随着薄膜次材料半径的增加,电阻率不断下降,另外薄膜材料的电阻率也和材料边界的电子反射率p有关,当p=1时,电阻率不随d变化,p越小,说明散射越多,电阻率越高。

::10

GMR 巨磁阻效应

平行: 电子散射较小,电阻较小。
反平行: 电子散射更强,电阻较大。

CIP:电流平行于薄膜。
CPP:电流垂直于薄膜。很明显电流垂直于薄膜时,GMR效应更加明显。

自旋积累

对于经典情况下两个金属有:
j1=σ1E1,j2=σ2E2
同时有:
Q=(E1E2)ϵ0
因此在两个金属的界面上一定要电荷积累。 同样对于自旋流来说从铁磁金属到非磁性金属有:
jF=σFE=σVx
jF=σFE=σVx
自旋磁矩:m=μB(nn)=μBN(ϵF)e(VV)
自旋连续性方程:mtμBex(jj)=mτif
自旋扩散方程,此时mx=0,所以d2mdx2=mλ2
其中扩散长度 λ=στif/e2N(ϵ)=3vF2ττif
下面对方程进行求解,
x<0,VV=Aexp(x/λ)
x>0,VV=Aexp(x/λ)
当x=0时,电压相同有A=B,于是有:
jFjF=σσσ+σ
jFjF=σNB2λN
对于有自旋积累的双材料模型的电阻(欧姆电阻和自旋积累引起的电阻):
R=V(L2)V(L1)=ejeL22σN+ejeL12σF+δR
其中δR=D2σND2σF=P2jeσNλN+(1P2)σNλF 为自旋积累引起的电阻。
对于半金属:
P=1,δR=ρNλN
所以半金属材料的电阻δR还是很大的
对于半导体材料电导率两者并不匹配,因此会导致效应十分微弱。 主要是σN<<σF.
jNjjN+j=P21P2λFλNσNσF

Johnson - Silsbee experiment (1985)

在一边有自旋流,会扩散到另一极产生电压。并且两极的磁矩取向影响电压正负。

home work11

计算RAPRP,两个金属分别使用同向磁矩和反向磁矩。

:: 11

磁隧道结

隧穿电阻
电流:j(V)=ed3kP(Ek,V)(fk(Ek)fk(Ek+eV))
电导:G=j/V=e2d3P(Ek,V)δ(EFEk) 态密度?
P(E_k,V_{\perp})是隧穿概率。
对于中间势垒是常数:
解: Ub=Aekz+Bekz,k=2m(UE)2
当中间势垒为线性函数时 Az+B时:
方程为艾里方程:2ψ2m+(Az+B)ψ=ϵψ
解的形式为: ψ=C(z)ekz

simmons tunnel model

G=a+bV2+...
G=a+bT2+...
Rexp(1.025tbVB)
image

在上面的情况中,隧穿也要发生变化:
$P(k_L,K_R) = \frac{16 k_L k_R K_02}{(K_L2 + K_02)(K_R2 + K_0^2)} exp(-2 k_0 t) $
kL=2m(ϵFVL)2
kR=2m(VRϵF)2

:: 12
设费米面处能量为0,则有:ϵk=2kz22mu,u为从底到费米面的能量绝对值。
在绝缘层的波函数为ψ=Aekz+Bekz,k=2m2(Vϵk)
k0>>kL,KR时,P↑↑=(k↑↑)2+(k↓↓)2
P↑↓=2k↑↓k↓↑
P↑↑P↑↓P↑↑+P↑↓=(kkkk)2
根据d3k=ρϵ,k2dk ρϵ,ϵdϵ=ρϵ
所以p ϵ kF
所以:P↑↑P↑↓P↑↑+P↑↓=(kkkk)2=(PPP+P)2=P2

Julliere model of TMR

求自旋极化因子P。
隧穿电导:GNL(ϵF)NR(ϵF)
平行电导:GPNLNR+NLNR
反平行电导:GAPNLNR+NLNR
TMR=GPGAPGAP=PLPR1PLPR
所以自旋圾化因子:PL,R=NL,RNL,RNL,R+NL,R

home work 12&13

证明穿透系数
在Co和半金属材料中使用Julliere model

STT

image

磁矩从一端进入,从一端出去,但是方向发生了改变,那么就必须有净的磁矩积累。就会导致里面的磁矩旋转。
使用连续性方程:ρt+J=0
可得: dMdt=(JinJout)=aJM×(M×Mp)
其中: aJ=μBPJee

:: 13
进动项加上阻尼项加上自旋力矩项的的LLG方程:
dmdt=γm×Heff+αm×dmdt+aJm×(m×mP)
这也是自旋阀理论方程。
进动项使得磁矩m不断旋转,阻尼项使得最终m趋向磁场h方向,当aJ<0,J<0时,力矩方向与阻尼项方向相反。
image

这里需要注意下,在赛曼能中有E=HeffM但是在一般的情况下是Heff=Em,所以就有:dEdt=Heffdmdt
能量变化速率:dEdt=αβ|Heff×M|2+aJ(αMPm×MP)(m×MP)
前一项是阻尼项后一项是自旋力矩产生的泵浦项。pumping 这一项是十分复杂的,如果为负那么可能造成磁矩的翻转。如果为0可以产生交流信号,并且scale是很小的,频率也很大。

非线性 Melnikov function

δE=F(E),F(E)=0,F(E)>0,stablestate
DC信号进去会产生AC信号!

spin pumping

提出一个东西记得问它的反效应。spin pumping 就是STT的反效应。
电流--> pumping
current --> torque --> magnetion precession
Feremagnetic --> precession --> spin current:M=M0+mcoswt,js=AM×dMdt

::14

绝热与非绝热力矩

js(x+dx)=PjeM(x+dx)
js(x)=PjeM(x)
Δjs=Pje[M(x+dx)M(x)]
体积内总的磁矩:Mdx
力矩: d(Mdx)dt=PjedMdx
磁矩m是守恒量所以有:d(Mdx)dt=μBjsedmdx=μBjsem×(m×dmdt)
导带电子运动方程:mt+J=1τexMsm×Mδmτsf
magnetization 磁化方程:
Mt=γM×Heff+αM×MtbJM×(M×Mx)+cJM×Mx
其中:cJbJ0.01,虽然比较小,但是在domain wall 作用很大,因为一般其和第二项进行比较。

总结

spin valves:
dmdt=γm×Heff+αm×dmdt+aJm×(m×mP)

三项分别是:进动项,阻尼项,力矩项
Tunnel junctions:
mt=γm×Heff+αm×mtaJm×(m×mP)+bJm×mP
最后一项是有效场项
Domain wall:
mt=γm×Heff+αm×mtbJm×(m×mx+βbJMsm×mx)
最后两项分别是绝热项和非绝热项。

::15
要想写成势能形式必须是保守力。

home work

为什么m×mP不能写成一个函数的梯度,即不是保守力。与积分路径有关?
临界电流的计算。
M=Ms+δeiwt ,δ是一个小量偏转,带入LLG方程。
这里有一个关键的条件:w的虚部为0,当虚部小于0时不稳定。为什么呢?因为在e指数上iwt如果w虚部是小于0,那么整体就是大于0,最终随时间增大一定是发散的。
aJ=α(2πMs+HkH)
不稳定的判断条件,a一般比较大。Hk为各向异性场。
不稳定之后存在两种解,一种是直接反平行,磁矩翻转。另一种做进动。
从LLG方程可以得到:
dEdtα|M×Heff|2+aJ(αMPM×MP)(M×MP)
第一项一定是正的,第二项可正可负,甚至随之时间改变正负。当MP//Heff时,有:
dEdt(α+aJHeff)|M×Heff|2
单独的STT已经被研究了很多,但是还需要和其他效应结合。
这里后面还涉及到了一些弛豫时间时间和自旋波相关。

::16

spin-dependent Ohm's Law

电流:jie=σE+σE
自旋流:jis=gμBe(σEσE)
整理后:
电流:jie=Pσ04e2(tM×iM)M
自旋流:jis=gμBσ04e2(tM×iM)
考虑一个一维螺旋磁畴结构:θ(x,t)=θ(xvt),ϕ(x,t)=ϕ0+wt
电压V=ρjiedx=Pw2e
在畴壁转动过程中能量随时间的变化为;dEdt=γα0|M×Heff|2γη|iMHeff|2
第一项是正常的阻尼项,第二项是由于焦耳热产生的,因为:Q=GE2+GE2=γη|iM×Heff|2
可以理解为,电子运动产生电流,因为有焦耳热。

SOC

对于单个原子的自旋轨道耦合哈密顿量:Hsoat=e2m2e2(Vt×P)σ
对于固体中自旋轨道耦合哈密顿量为:Hsoat=ζso(Ven×P)σ
在半导体中:ζso1Eg21(Eg2+δso)2=1000×e2m2e2
这里主要是因为势能在固体里面取了平均,实际的变化很可能是剧烈的。所以差了1000倍。
在铁磁表面的哈密顿量:H=P22m+V+α(V×P)σJMiMjJexMiσ
考虑最简单的情况,在界面处:H=P22m+αRa(z×P)σJexMσ
前两项就是半导体中的Rashba效应的哈密顿量。 之后是交换能。

::17
这一集和16集重复了。

:: 18
证明在金属-绝缘体表面的H=HRa
HR=αso(V×P)σ>>HPauli=μB2mc2(V×P)σ
表面势为:V=(W+Eχ)δ(z)
所以HR=αR(z×P)σ,αR=αso(W+Eχ)δ(z)
对于交换能,自旋向上的体系中,在k空间所有自旋都是朝上;自旋向下的体系中,在k空间所有自旋都是朝下;
对于Rashba效应,自旋向上的体系中,在k空间所有自旋都是顺时针,也就是自旋与k矢量(也就是M)垂直;自旋向下的体系中,在k空间所有自旋都是逆时针;

Miron NM 2010 2011

:: 19
Endo APL 2010

heat assisted writing

ΔE=KaV
τ=τ0eΔEkT
一般存储设备的年限至少要十年,那ΔEkT至少要50,所以V不能太小,但是随着存储密度的提高,这个体积V不断减少,这就有了一定限制。

::20
所以材料的各向异性就得非常大,增大Ka.例如材料Pt,Co。
在低温下势LLG,在高温下张曙丰老师发展了新的方程,加入了一项与弛豫时间有关。 当时还缺少实验的证实。

::21

hard disk drive

FePt(L) 有10特斯拉。 各向异性很强。
虽然各向异性很强,但是这给写入又带来了困难。与19集有点相似。

posted on   小李同学314  阅读(1540)  评论(0编辑  收藏  举报
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