上一页 1 ··· 33 34 35 36 37 38 39 40 41 ··· 272 下一页
摘要: FPGA开发资料整理 FPGA静态时序分析——IO口时序(Input Delay /output Delay) https://www.cnblogs.com/linjie-swust/archive/2012/03/01/FPGA.html 本文PDF版本下载: https://files.cnb 阅读全文
posted @ 2023-09-27 05:34 吴建明wujianming 阅读(62) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: Computer Architecture 缓存技术杂谈 关于缓存系统的笔记告一段落,整理了所有的笔记链接,并且总结了每一个优化方法对于性能的影响。 (注:MP = Miss Penalty 错失成本,MR = Miss Rate 错失率,BW = Memory Bandwidth 内存带宽) 关于 阅读全文
posted @ 2023-09-26 04:41 吴建明wujianming 阅读(180) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: RISCV技术分析 初识RISC-V https://www.cnblogs.com/wahahahehehe/p/15574316.html 1.1 什么是RISC-V 了解RISC-V之前,先熟悉一个概念,指令集架构(Instruction Set Architecture,ISA)。 1.1. 阅读全文
posted @ 2023-09-25 03:57 吴建明wujianming 阅读(752) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: Nsight 计算分析指南内核分析指南 https://docs.nvidia.com/nsight-compute/ProfilingGuide/ Nsight 计算分析指南。 内核分析指南,包含指标类型和含义、数据收集模式和常见问题解答。 1. 简介 本指南介绍了与 NVIDIA Nsight 阅读全文
posted @ 2023-09-24 04:34 吴建明wujianming 阅读(1444) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: SIMD和SIMT技术分析 SIMD(Single Instruction Multiple Data)是单指令多数据,在GPU的ALU单元内,一条指令可以处理多维向量(一般是4D)的数据。比如,有以下shader指令: float4 c = a + b; // a, b都是float4类型 对于没 阅读全文
posted @ 2023-09-23 06:33 吴建明wujianming 阅读(196) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: Linux与uboot开发分析 7.1. 嵌入式 Linux 环境 嵌入式 Linux 环境与熟悉的 PC 环境还是有很大区别的,要搭建出一套完整的嵌入式 Linux 环境需要做的工作相当多。图7.1表示一个嵌入式 Linux 环境示意图: 图7.1. 嵌入式 Linux 环境示意图 BootLoa 阅读全文
posted @ 2023-09-22 05:36 吴建明wujianming 阅读(258) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: SIMD和SIMT技术分析 SIMD(Single Instruction Multiple Data)是单指令多数据,在GPU的ALU单元内,一条指令可以处理多维向量(一般是4D)的数据。比如,有以下shader指令: float4 c = a + b; // a, b都是float4类型 对于没 阅读全文
posted @ 2023-09-20 04:50 吴建明wujianming 阅读(1071) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: DDR,总线,PCIE技术分析 PCIE开发笔记(一)简介篇 这是一个系列笔记,将会陆续进行更新。 最近接触到一个项目,需要使用PCIE协议,项目要求完成一个pcie板卡,最终可以通过电脑进行通信,完成电脑发送的指令。这当中需要完成硬件部分,使用FPGA板实现,同时需要编写Windows下的驱动编写 阅读全文
posted @ 2023-09-19 05:16 吴建明wujianming 阅读(803) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: 光刻机FinFET存储器进行设计,测试验证分析 FinFET存储器的设计、测试和修复方法 3.1. FinFET存储器介绍 1. FinFET存储器的挑战 同任何IP模块一样,存储器必须接受测试。但与很多别的IP模块不同,存储器测试不是简单的通过/失败检测。存储器通常都设计了能够用来应对制程缺陷的冗 阅读全文
posted @ 2023-09-18 04:51 吴建明wujianming 阅读(348) 评论(0) 推荐(0) 编辑
摘要: 光刻机极紫外曝光系统分析 极紫外光刻曝光光学系统是极紫外光刻机的核心部件,其设计直接影响极紫外光刻机的性能。极紫外光刻机曝 光系统的设计难度大、研究周期长,国外极紫外光刻机产品已经用于高端芯片的制造,但国外对中国禁运相关产品。国 内极紫外光刻机曝光系统的设计和研发始于 2002 年。国内相关领域的研 阅读全文
posted @ 2023-09-17 05:32 吴建明wujianming 阅读(1214) 评论(0) 推荐(0) 编辑
上一页 1 ··· 33 34 35 36 37 38 39 40 41 ··· 272 下一页