摘要：
ALD技术，相机去噪，图像传感器 1. 作为镜片的防反射涂层技术被关注的ALD（atomic layer deposition）的引入趋势。 （a）为什么需要一种新的防止反射的涂层技术？ ALD被认为是最有前途的防止反射的涂层技术吗？ 原子层沉积（ALD）是将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面的 阅读全文
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FinFET与2nm晶圆工艺壁垒 谈到半导体工艺尺寸的时候，通常对于下面的一串数字耳熟能详：3um、2um、1.5um、1um、0.8um、0.5um、0.35um、0.25um、0.18um、0.13um、90nm、65nm、45nm、32nm、22nm、14nm、10nm...有人说5nm是半导 阅读全文
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ALD对照CVD淀积技术的优势 ALD 适合制备很薄的高K金属氧化物层，对腔室的真空度要求比较高，对反应气体源及比例的要求也较高。 目前沉积速率还是比较慢，大大限制了其在工业上的推广应用，不过随着设备技术的不断进步，包括ALD系统，前景还是很值得期待的。 ALD 除了常规的半导体高K 材料，太阳能等 阅读全文
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PVD与CVD性能比较 CVD定义： 通过气态物质的化学反应在衬底上淀积一层薄膜材料的过程。 CVD技术特点： 具有淀积温度低、薄膜成分和厚度易于控制、均匀性和重复性好、台阶覆盖优良、适用范围广、设备简单等一系列优点。 CVD方法几乎可以淀积集成电路工艺中所需要的各种薄膜，例如掺杂或不掺杂的SiO2 阅读全文
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摄像头PVD和CVD薄膜 在FDP 的生产中，在制作无机薄膜时，可以采用的方法有两种：PVD 和CVD (将VE 和VS 归于PVD ，而ALD 归于CVD)。 Physical Vapor Deposition (PVD) Physical Vapor Deposition (PVD)称为物理气象 阅读全文
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CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域 显示 用于OLED、QD-OLED、甚至未来QLED的薄膜封装，通过有机/无机叠层结构的保护，水汽渗透率WVTR可降至10-5g/m2/day，保证OLED或者量子点发光材料的稳定。另外量子点光学膜QDEF也需要WVTR小于0.1的阻隔膜，保护量子点不受水氧破坏。 阅读全文
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薄膜封装，等离子体技术，原子层沉积，化学气相沉积 薄膜封装 薄膜封装概念 薄膜真空沉积的一个很重要的技术应用就是薄膜封装。人们对薄膜封装最简单的认识就是日常生活中最常见的保鲜膜，水氧渗透率大约是1-10 g/m2/day。先进薄膜封装，通过真空沉积一层或多层厚度在纳米或微米尺度的薄膜，大幅减少本体与 阅读全文
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ALD和CVD晶体管薄膜技术 现代微处理器内的晶体管非常微小，晶体管中的一些关键薄膜层甚至只有几个原子的厚度，光是英文句点的大小就够容纳一百万个晶体管还绰绰有余。ALD 是使这些极细微结构越来越普遍的一种技术。 ALD 工艺直接在芯片表面堆积材料，一次沉积单层薄膜几分之一的厚度，以尽可能生成最薄、最 阅读全文
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i.MX6UL: i.MX 6UltraLite处理器 - 低功耗，安全，Arm® Cortex®-A7内核 概述 MX6UltraLite作为i.MX6系列的扩展，一系列高性能、超高效的处理器，采用先进的Arm® Cortex®-A7内核，运行速度高达696 MHz。i.MX6UltraLite应 阅读全文
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温控产品解决方案 NetCol8000-C房间级冷冻水智能温控产品 产品描述：华为NetCol8000-C系列是针对中低密度、中大型数据中心制冷需求设计的制冷末端产品，其通常与冷水机组、水泵、冷却塔等组成机房环境精密控制系统，保证IT设备拥有可靠安全的运行环境。采用模块化设计，多模块机组可简易拆分成 阅读全文