摘要：
芯片面积大小 芯片大小是由芯片设计师乃至整个芯片设计团队共同沟通确定的，芯片绝对不是你想设计多大就多大，这里涉及到成本和效益等许多方面的问题，一般来说，在同等架构的条件下，芯片设计的越大规格越高，性能也就越强，但是受限于各种条件，芯片绝不能无限制的扩大。 比如一颗PC芯片和手机芯片的设计标准就不一样 阅读全文
摘要：
光刻技术发展 光刻机作用 光刻机（英文“Mask Aligner”) ，又名掩模对准曝光机，芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。芯片的制造流程极其复杂，可以概括为几大步骤：硅片的制备-->外延工艺-->热氧化-->扩散掺杂-->离子注入-->薄膜制备-->光刻-->刻蚀-->工艺集成等。光刻工艺是制造 阅读全文
摘要：
关于TVM的点滴记录 阅读全文