摘要：
原子层沉积技术 原子层沉积技术 原子层沉积，ALD 是一种适合于研制最新的和前沿性的产品的薄膜制备技术。原子层沉积 ALD 也是一种用于纳米技术研究的有效方法。典型的原子层沉积应用是在各种尺寸和形状的基底上沉积高精度、无针孔、高保形的纳米薄膜。针对目前的市场需要，Beneq 通过提供具有创新性应用和 阅读全文
摘要：
CVD-ALD前驱体材料 ALD前驱体源瓶特点是什么 ALD前驱体源瓶（起泡器）用于固态、液态及气态超纯物料类的封装，涉及微正压、常压、中低压的危险化学品，对源瓶的安全性和洁净度提出严苛的要求。 ALD前驱体源瓶特点： 所有管件采用316L不锈钢，内部经400目机械抛光和电化学抛光，Ra≦0.25微 阅读全文