2021年3月17日
台积电5nm光刻技术
摘要： 台积电5nm光刻技术 在IEEE IEDM会议上，台积电发表了一篇论文，概述了其5nm工艺的初步成果。对于目前使用N7或N7P工艺的客户来说，下一步将会采用此工艺，因为这两种工艺共享了一些设计规则。新的5nm制程使用了台积电的第五代FinFET技术，在7纳米基础上提供一个完整的工艺节点，并使用EUV 阅读全文
posted @ 2021-03-17 06:02 吴建明wujianming 阅读(1512) 评论(0) 推荐(0) 编辑