平板显示电路设计、晶圆制造、先进封装设计EDA工具

平板显示电路设计全流程EDA工具系统
华大九天全球领先的平板显示电路设计全流程EDA工具系统包含平板显示电路设计器件模型提取工具、平板显示电路设计原理图编辑工具、平板显示电路设计版图编辑工具、平板显示电路设计电路仿真工具、平板显示电路设计物理验证工具、平板显示电路设计寄生参数提取工具和平板显示电路设计可靠性分析工具等。
平板显示电路设计器件模型提取工具Empyrean XModel®FPD继承原有Empyrean Esim®FPD Model工具中平板显示电路设计器件自有模型机理，新增了四端器件和可靠性模型解决方案，实现了器件数据分析、模型提取、模型验证等全流程功能。
平板显示电路设计原理图和版图编辑工具Empyrean Aether®FPD适用于平板显示电路设计的相关环节，特别提供了面向异形平板显示电路设计的高效专用解决方案。华大九天新发布升级产品Empyrean Aurora®FPD，主要在核心数据库和版图编辑方面进行了技术升级，提升了版图编辑和显示的性能，增强了 TP（触控面板）设计、极窄边框设计的功能和易用性，优化了 OLED（有机发光二极管）面板布线技术，为平板显示的版图编辑提供了更高效、完整的解决方案。
平板显示电路设计电路仿真工具Empyrean ALPS®FPD适用于平板显示电路的高精度快速电路仿真。
平板显示电路设计物理验证工具Empyrean Argus®FPD是根据平板显示电路设计特点开发的层次化并行物理验证工具。
平板显示电路设计寄生参数提取工具Empyrean RCExplorer®FPD为用户提供了高精度平板显示电阻电容提取方案，例如像素级电阻电容提取、触控面板电阻电容提取和液晶电容提取等诸多功能。
平板显示电路设计可靠性分析工具Empyrean Artemis®FPD是平板显示电路设计专用的可靠性分析解决方案。
以上工具被集成在统一的设计平台中，为用户提供一套从原理图到版图，从设计到验证的一站式解决方案，为提高平板显示电路设计效率，保证设计质量提供了有力的工具支撑。

 

器件模型提取工具
Empyrean XModelFPD
Empyrean XModel®FPD半导体物理器件模型提取与验证平台, 可建立符合产业标准的模型提取, 提供全流程的建模功能: 包含测试数据分析、Global 模型、Binning 模型、Corner 模型、统计模型、Hysteresis/Stress可靠性分析解决方案。内置Navigator显示与排图系统, 提取参数操作功能界面, 加上排图语法系统, 可以高效加速完成模型提取。Circuits可自定义Netlist界面系统, 解决各类型数据加载后, 仿真各种特殊定义问题。提供完整的Corner Library生成接口与图表, 加速各阶段建模所需的模型生成。
Empyrean XModel®FPD提供FPD提取界面, 此系统采用Step by Step方式完成FPD模型提取作业, 系统提供内置Extract Flow的范例, 并提供客户自定义SOP提取流程, 以及高效的提升模型提取流程。该工具内置业界标准的RPI A-Si、RPI Poly-Si以及华大九天基于先进工艺器件物理特性和理论自研的紧凑模型，可以更好地满足平板显示电路设计仿真需求。
Empyrean XModel®FPD提供Model Library QA仿真验证接口, 完成各种模型提取后, 针对整合后的Model Library做模型质量仿真验证, 内置各种标准模型所需要的验证图表, 确保模型质量最后关卡的验证。并且提供Compare Model功能, 客户可进行不同模型之间与不同仿真器之间模型仿真值的验证比较。

原理图和版图编辑工具
Empyrean AetherFPD 　
平板显示电路设计原理图编辑工具Empyrean Aether®FPD SE
Empyrean Aether®FPD Schematic Editor (以下简称Empyrean Aether®FPD SE) 是平板显示电路设计原理图编辑工具，主要用于对平板显示电路设计的像素单元、控制单元等电路模块进行原理图设计。该工具不仅支持传统的平板显示电路设计的原理图编辑，还可支持异形屏显示电路的原理图编辑，快速匹配异形版图，大幅度提升异形原理图绘制效率。
Empyrean Aether®FPD SE工具根据面板电路设计特点，创新开发了阵列电路快速设计（Create Cascade）技术，异形像素阵列电路自动生成技术（Fill AA）。同时，该工具提供友好的设计环境和灵活的工具设置界面，支持EDIF、SPICE、Verilog等各种标准网表的导入导出接口，通过编辑命令快速、高效实现包括像素电路、外围控制和驱动电路的原理图设计，并保持完整的电路层次结构。
Empyrean Aether®FPD SE通过集成平板显示设计电路仿真工具（Empyrean ALPS®FPD），为平板显示电路设计提供了完整高效的交互式前端设计流程，充分满足用户的电路以及仿真设计需求。
平板显示电路设计版图编辑工具Empyrean Aether®FPD LE
Empyrean Aether®FPD LE提供了适用于平板显示电路设计的版图编辑环境，特别是异形屏显示设计的版图编辑，满足了手表（圆形屏等）、手机（水滴屏等）、汽车仪表盘（曲线屏等）等消费电子领域对平板显示电路设计的特殊要求。该工具通过创新的旋转单元编辑技术、异形填充技术以及平板显示电路设计自动布局布线技术，帮助用户高效完成满足异形形状和设计规则约束的版图设计，提高了异形版图设计的效率和质量。 版图编辑工具能够实现任意几何图形的编辑，包括快速创建、复制、移动、拉伸、裁切、对齐等操作，快速完成版图设计；具有快速创建矩形、多边形、圆形，快速Size Lib等功能；能够快速实现图形的AND/OR/NOT/XOR逻辑运算，同时具备Split、Net Trace、Auto Report等功能以快速完成版图设计。 此外，该工具还包含有多个自动布线模块，包括等电阻布线、指定电阻的PLG布线块和梯型布线等模块，可帮助用户自动完成多种连线需求，高效完成版图设计，提升了版图设计质量。
平板显示电路设计异形版图编辑工具Empyrean Aether®FPD LEXP
Empyrean Aether®FPD LEXP提供适用于异形平板显示电路版图设计的编辑环境，实现异形区域的单元旋转摆放或阶梯摆放，满足水滴屏、刘海屏等异形显示屏幕的设计要求。Empyrean Aether®FPD LEXP可实现旋转单元零格点偏移布线、圆滑的异形轮廓Fanout布线、自动躲避障碍的智能化布线等，不仅显著提升设计效率，还能在确保正确性的前提下满足窄边框的要求。

电路仿真工具
Empyrean ALPSFPD
随着平板显示电路设计的发展，大尺寸和高清分辨率成为设计主流，晶体管和寄生器件随之急剧增加。传统SPICE仿真工具对平板设计进行验证时遇到了前所未有的挑战，尤其是全面板仿真已经超出了传统仿真工具的处理能力。
Empyrean ALPS®FPD是华大九天推出的新一代平板显示电路仿真工具，能够处理数千万个元器件规模的设计，通过独有的智能矩阵求解技术、多核并行技术、内存管理技术，在保持SPICE精度的前提下突破了平板显示电路的仿真速度和容量瓶颈，精确地仿真像素电流、串扰效应和动态IR -drop等。

物理验证工具
Empyrean ArgusFPD
平板显示电路设计物理验证工具Empyrean Argus®FPD是根据平板显示电路设计特点开发的层次化并行物理验证工具。它不仅满足传统平板显示电路设计的DRC/LVS/LVL验证要求，还针对异形屏幕显示设计的特点开发了圆弧及任意角度旋转图形的高精度器件提取和规则检查技术，保证了物理验证的精度。同时，针对平板显示电路设计高重复阵列式设计特点，通过设计规则违例识别和聚类技术，显著提升了用户检查和分析设计违例的效率，缩短了产品的设计周期。

寄生参数提取工具
Empyrean RCExplorerFPD
随着平板显示技术的快速发展，高分辨率像素结构及复杂的金属网格触控图形设计都会存在更多寄生效应，寄生效应对电路性能带来的问题在面板显示设计中变得越来越有挑战性。
Empyrean RCExplorer®FPD为用户提供了高精度平板显示电阻电容提取方案。寄生参数提取工具根据工艺参数堆叠结构对版图中的像素、触控图形、电路等版图图形进行三维建模，基于高精度三维场求解器电容提取技术和有限元方法的高精度电阻计算技术以及自适应网格剖分技术等，进行像素级电阻电容提取、触控面板电阻电容提取和液晶电容提取等功能计算，在保证寄生参数提取精度的同时，极大地提升了计算效率，输出的电容电阻寄生参数及电路网表可用于版图后仿真及图形设计优化。
该工具可与Empyrean Aether®FPD集成，快速读取版图建立三维结构并将分析结果反标回版图供查看确认，为用户提供了完整、高效的一站式设计和验证解决方案。

可靠性分析工具
Empyrean ArtemisFPD
Empyrean Artemis®FPD是平板显示电路设计专用的可靠性分析解决方案。该工具主要包括电压降分析、电迁移分析和热分析等功能。针对平板显示电路设计的版图特点，该工具通过全面板热电分析技术实现了对大规模网络的电流和电压快速计算，大幅提升了平板显示电路设计可靠性分析的效率。

晶圆制造EDA工具
华大九天针对晶圆制造厂的工艺开发和 IP 设计需求，提供了相关的晶圆制造 EDA 工具，包括原有工具器件模型提取工具、IBIS 模型建模工具、光刻掩模版布局设计工具、存储器编译器开发工具、单元库特征化提取工具、存储器电路特征化提取工具、混合信号电路模块特征化提取工具、单元库/IP 质量验证工具、版图集成与分析工具以及模拟电路设计全流程 EDA 工具等以及新发布光刻掩膜版数据查看和分析工具、参数化版图单元开发工具、界面化版图单元开发工具、测试芯片版图自动化生成工具、PDK自动化开发和验证平台等工具，为晶圆制造厂提供了重要的技术支撑。
IBIS 模型建模工具Empyrean Demeter ®实现了从IBIS模型提取、整合、语法检查到精度验证等所有步骤的全流程功能，广泛应用于各类缓冲器的模型提取，如动态随机存取存储器、SerDes、模数/数模转换器等。
光刻掩模版布局设计工具Empyrean Mage®可以实现一次曝光尽可能多的芯片，从而减少曝光次数，降低机台损耗，并可以优化晶圆布局，以获得最高的晶圆利用率，为光刻掩模版布局设计提供了完备和高效的解决方案。
光刻掩模版数据查看和分析工具Empyrean GoldMask® Viewer主要用于掩模版实际生产前的数据检查分析，可以产生掩模版检测阶段的参考数据，为掩模版数据分析提供了完备和高效的解决方案。
参数化版图单元开发工具Empyrean Hail® PCM基于Python语言提供了丰富的参数化版图单元API，支持用户通过编写Python代码来开发设计PCell，创建和修改Python对象，完成几何图形、实例等对象的创建、移动、复制等功能。
界面化版图单元开发工具Empyrean Hail® PLM为 PDK 开发以及 IP 设计用户提供了 PDK 开发工具市场中效能与兼容性最佳的 PCell 设计解决方案。
测试芯片版图自动化生成工具Empyrean Hail® TPM以界面化可变参数单元为基础，可以批量实现基本版图单元的生成以及测试版图的自动布局布线和拼接，大幅提高了测试芯片的设计效率，广泛应用于各种测试芯片的设计，如工艺模型测试芯片的快速生成等。
PDK自动化开发和验证平台Empyrean PBQ®支持PDK开发项目的管理，包括开发文件管理、代码编辑和PDK编译功能，实现PDK的高效开发，同时提供不同的PDK验证机制，可调用设计平台和物理验证工具，实现PDK的自动化验证，保证PDK的质量。
华大九天在已有工具基础上，在晶圆制造EDA的多个细分领域形成了多个解决方案，包括 PDK套件开发方案、标准单元库和SRAM等基础IP的完整工具链支撑方案、光刻掩膜版数据准备和分析验证方案、物理规则验证和可制造性检查方案等，为晶圆制造厂提供了重要的工具和技术支撑。

 

器件模型提取工具
Empyrean XModel
　　器件模型提取工具Empyrean XModel®为用户提供了高效的模型提取解决方案，支持硅基金属氧化物器件、硅基高压器件、分立器件、TFT器件和新型第三代半导体等不同类型的器件模型提取。
　　Empyrean XModel®提供了器件测试数据处理和分析、典型特征模型提取、版图效应模型提取、工艺角模型提取、统计和失配模型提取、模型库验证分析等功能。覆盖模型提取及验证的全流程，满足不同类型和各个阶段的器件模型提取的要求。
　　Empyrean XModel®集成的数据图形化显示系统, 参数调整模块、模型文件解析显示管理系统、可配置的数据仿真模块、可定制化的提取流程模块、模板丰富的模型质量验证模块和功能强大的脚本系统，可以高效完成各种工艺、器件类型的模型提取和验证。
　　Empyrean XModel®通过内置模板集成成熟的工作流程，显著提高用户的工作效率。同时Empyrean XModel®作为开放性模型提前和验证平台，支持用户实现各种定制化的需求，助力学术界、工业界对于先进模型的开发验证。

光刻掩模版布局设计工具
Empyrean Mage
　　光刻掩模布局设计工具Empyrean Mage®可将单种或多种芯片自动排布到光刻机单次最大曝光区域中，根据指定规则自动放置掩模或晶圆生产时需要的各类监控图形（例如Alignment/Testkey/Process Control Monitor/Barcode/Qrcode等），生成划片道图层，产生光刻掩模版框架，以实现一次曝光尽可能多的芯片，从而减少曝光次数，降低机台损耗。此外，Empyrean Mage®还可以优化晶圆布局，以获得最高的晶圆利用率，为光刻掩模版布局设计提供了完备和高效的解决方案。
　　Empyrean Mage®支持对单芯片和多芯片进行自动排布，提供多种调整方式可以对排布结果进行灵活调整，同时支持检查是否存在芯片重叠的问题。工具支持通过模块化定义Frame设计，可以批量生成Mark，并按用户设定规则放置到划片槽区域，还可以定义划片槽层与摆放的Mark关系，通过不同的规则设定输出适合晶圆生产工艺所需要的极性。工具还支持自动计算芯片在晶圆上的最优排布以得到晶圆的最佳利用率，可以输出Layout结果与用户自定义模板坐标文件。Empyrean Mage®提供了交互式界面可以查看Frame设计结果和晶圆上芯片的排布情况，支持在界面上进行调整优化。
　　Empyrean Mage®适用于晶圆代工厂的Tape-out流程和Maskshop数据准备流程中，提供了快速方便的光刻掩模版布局设计方案，目前已在多家晶圆代工厂和Maskshop得到应用。

掩模版数据处理验证分析平台
Empyrean GoldMask
　　Empyrean GoldMask®是一个掩模版数据处理与验证分析平台，共包含三款工具：Empyrean GoldMask® Fracture、Empyrean GoldMask® MRC、Empyrean GoldMask® Viewer。它提供了强大的工具套件，主要用于版图数据切割转档、掩模版数据验证、掩模版数据查看与分析等方面。
　　Empyrean GoldMask® Fracture能够将版图数据转换为掩模版生产机台可识别的数据格式，为版图数据切割及转档提供了准确且快速的解决方案。能够支持的输入文件类型包括GDSII、OASIS和MEBES，输出文件类型包括MEBES等。在转档过程中，可以同步进行一元运算、二元运算及转换操作。此外，该软件还支持XOR功能以验证数据转换的准确性。
　　Empyrean GoldMask® MRC为掩模版规则检查提供了解决方案，以确保Mask中的图形能够适应掩模版制造工艺。该工具支持对单层或多层掩模版图形进行Width/Space检查、Notch检查、Point Distance检查等，还支持多层版图间的逻辑运算。
　　Empyrean GoldMask® Viewer是一款便利的掩模版数据查看与分析工具。该工具支持对掩模版数据进行快速读取、查看、分析，提供了灵活的掩模版图形自动测量功能，以及图形密度计算、掩模版数据比对、芯片交叠检查等分析能力。 Empyrean GoldMask® Viewer主要用于掩模版实际生产前的数据检查分析，可以产生掩模版检测阶段的参考数据，为掩模版数据分析提供了完备且高效的解决方案。

单元库特征化提取工具
Empyrean Liberal
标准单元库是数字集成电路设计的重要基础。它是集成电路设计过程中预先定义好的、特征化的标准模块的集合。通过电路仿真的方式提取标准单元的时序、功耗等特征值，建立标准单元逻辑信息模型文件的过程称之为标准单元库的特征化提取。随着工艺的发展和设计复杂度的增加，标准单元的类型、数目和工艺角急剧增加，标准单元的特征化模型描述也越来越复杂，使得生成一套标准单元库的特征化模型时间越来越长，甚至多达数月。标准单元库特征化提取的时间花费已成为制约数字电路设计效率的重要瓶颈之一。
Empyrean Liberal®为用户提供了一套快速而精确的标准单元库时序和功耗特征化模型的解决方案。工具通过内置的电路仿真工具Empyrean ALPS®对标准单元进行仿真分析，精确地提取时序和功耗特征值，形成标准单元库特征化模型。同时，通过高效的分布式并行调度技术，进一步提升了单元库特征化提取的性能，为用户加速单元库的设计和优化提供了重要支撑。
Empyrean Liberal® AI 采用 AI（人工智能）技术，基于现有PVT Corner可以准确地预测出新 Liberty 文件，显著减少特征化提取时间和所占用的机器资源。
Empyrean Liberal®还可以对单元库进行质量验证。用户可以利用Empyrean Liberal®比较两个单元库的数据、属性和结构，对比精度差异，仿真验证库文件数据的准确性等，从而保证单元库文件的质量。

存储器电路特征化提取工具
Empyrean Liberal Mem
随着工艺在深纳米领域的不断发展，以及消费者对低功耗移动设备的需求增多，特征化库文件的工程需求量也随之急剧增加到数百个PVT工艺角，对工艺偏差建模（LVF库）的需求也随之产生。这种需求在存储器库文件特征化中尤为迫切，因为传统的全电路关键路径仿真的方法已不能满足特征化性能的要求。
此外,由于存储器的存储单元尺寸不断减小及其灵敏放大器的模拟性质，存储器特征化面临着新的挑战。Empyrean Liberal® Mem创新的机器学习方法能够准确地捕捉存储阵列的仿真行为并无缝集成到整个静态时序分析框架中。
Empyrean Liberal® Mem是新一代存储器特征化表征工具，可以快速地生成标准库文件和带有LVF格式的库文件。带有LVF格式的库文件是通过仿真局部偏差源，并自动化地在整个电路中传播这种偏差效应来实现的。
Empyrean Liberal® Mem独立于SPICE仿真器，它可以与流行的商用SPICE和Fast SPICE仿真器紧密集成，进行高性能高精度的存储器特征化建模。另外，Empyrean Liberal® Mem还支持内置电路分析和库质量验证的功能，以保证库文件的准确。

混合信号电路模块特征化提取工具
Empyrean Liberal IP
随着工艺在深纳米领域的不断发展，以及消费者对低功耗移动设备的需求增多，特征化库文件的工程需求量也随之急剧增加到数百个PVT工艺角，对工艺偏差建模（LVF库）的需求也随之产生。这种需求在混合信号集成电路模块库文件特征化中尤为迫切，因为传统的全电路模拟仿真的方法已不能满足特征化性能的要求。
此外,由于工艺尺寸不断减小，混合信号集成电路特征化面临着新的挑战。Empyrean Liberal® IP创新的机器学习方法能够准确地捕捉混合信号的仿真行为，并将结果精确地集成到整体静态时序分析框架中。
Empyrean Liberal® IP是新一代混合信号电路特征化表征工具，可以快速地生成标准库文件和带有LVF格式的库文件。带有LVF格式的库文件是通过仿真局部偏差源，并自动化地在整个电路中传播这种偏差效应来实现的。
Empyrean Liberal® IP特征化工具独立于SPICE仿真器，它可以与流行的商用SPICE和Fast-SPICE仿真器紧密集成，进行高性能高精度的混合信号集成电路模块的特征化建模。

单元库/IP质量验证工具
Empyrean Qualib
标准单元库和IP是数字电路设计的重要基础，单元库和IP的质量直接决定了芯片设计的质量和性能。而随着单元库和IP的种类越来越繁多，质量管理和验证也越来越困难。如何对单元库和IP的质量进行检查，在设计的初期预先发现问题，规避设计错误以及如何分析单元库和IP的性能、功耗指标以适配设计的需求，为设计提供更优的单元库和IP选择从而提高芯片设计的性能指标，已成为业界关注的焦点问题。
无论是标准单元库或IP的供应商、晶圆制造厂还是芯片设计公司，都需要对单元库和IP进行全面的质量检查和性能分析，保证单元库和IP的正确性、一致性以及和设计需求之间的适配性，确保集成之后的功能和性能指标符合设计预期。但随着单元和IP的数量和复杂度增加，单元库和IP质量检查的完备性、规范性、海量性能指标数据的可视化等都面临巨大挑战。
Empyrean Qualib®为用户提供了综合的单元库/IP质量分析验证方案。工具提供了基于规则的单元库/IP质量检查、基于特征化模型的单元库性能评估与趋势分析，可多方位地检视和分析单元库/IP的质量和性能。通过SPICE仿真，还支持对时序库单元进行精度矫正、敏感性分析、老化分析、工艺偏差分析等，为高质量的完成设计并达成设计指标提供了重要保障。
Empyrean Qualib®支持多种库文件格式种类，包括GDSII/OASIS/Verilog/Liberty/LEF...等，被应用到不同工艺节点、不同设计类型如标准单元、存储器、IO、模拟IP等单元库/IP的质量验证中，获得了用户的广泛认可。通过Liberty API的方式，还可以通过接口函数方式对时序库进行定制化的分析及检查。

IBIS建模及验证工具
Empyrean Demeter
　　数据传输速率的不断提高，使得信号完整性的问题变得越来越突出。借助于仿真工具进行信号完整性的分析和预测，可以优化设计性能，减少设计周期，降低原型成本，加速产品推向市场的速度。而随着芯片复杂程度的提高，使用芯片模型进行信号完整性仿真所需的时间也大大增加。行为级模型——IBIS 模型由于能够很好地保护芯片厂商的知识产权和更快的仿真速度而受到芯片厂商、EDA 工具厂商和系统厂商的欢迎，成为目前信号完整性仿真模型的主流。这也要求模型供应商能够快速准确的进行IBIS建模，保证能够提供精确的IBIS模型。
　　Empyrean Demeter®作为图形化建模工具，提供了自动化的IBIS Buffer模型提取，生成和验证流程。通过其图形化界面可以进行SPICE模型节点映射，自动运行SPICE仿真以获取模型的行为并生成对应的IBIS模型。同时，Empyrean Demeter®提供了IBIS模型的无缝验证流程。可以根据模型的相关设置，自动创建电路图，进行IBIS模型验证，提供详细的DPI（差异峰值指数）和DAI（差异平均指数），便于对比SPICE模型与IBIS模型之间的差异。

存储器编译器开发工具
Empyrean SMCB
　　 Empyrean SMCB®是华大九天针对Memory Compiler设计需求提供的一体化开发平台。存储器编译器是晶圆制造厂为客户提供的重要基础IP之一，用来生成不同容量的存储器及相关数据文件。 　　
　　 华大九天存储器编译器开发工具Empyrean SMCB®提供了电路拼接、版图拼接、特征化提取及IP发布等功能，为设计师提供了一站式存储器编译器开发解决方案。该工具通过创新性的存储器编译器电路和版图拼接技术，显著提升了电路和版图拼接、关键路径生成以及存储器实例化的效率。同时，该工具为不同类型的存储器提供了通用的存储器编译器发布功能，为晶圆制造厂同时发布多工艺、多类型的存储器编译器提供了技术支撑。

模拟电路设计全流程EDA工具系统
华大九天模拟电路设计全流程EDA工具系统包括原理图编辑工具、版图编辑工具、电路仿真工具、物理验证工具、寄生参数提取工具和可靠性分析工具等，为用户提供了从电路到版图、从设计到验证的一站式完整解决方案。
原理图和版图编辑工具Empyrean Aether®搭建了一个高效便捷的模拟电路设计平台，它支持原理图编辑、版图编辑以及仿真集成环境，同时和电路仿真工具（Empyrean ALPS®），物理验证工具（Empyrean Argus®）、寄生参数提取工具 (Empyrean RCExplorer®) 以及功率器件可靠性分析工具（Empyrean Polas®）等无缝集成，为用户提供了完整、平滑、高效的一站式设计流程。
电路仿真工具Empyrean ALPS®基于高性能并行仿真算法，是大规模电路版图后仿真的理想选择。
异构仿真系统Empyrean ALPS-GT®基于CPU-GPU异构系统，进一步提升了版图后仿真效率，可帮助用户大幅缩减产品开发周期。
物理验证工具Empyrean Argus®支持主流设计规则，并通过特有的功能，帮助用户在定制化规则验证，错误定位与分析阶段提高验证质量和效率。
寄生参数提取工具Empyrean RCExplorer®支持对模拟电路设计进行晶体管级和单元级的后仿网表提取，同时提供了点到点寄生参数计算和时延分析功能，帮助用户全面分析寄生效应对设计的影响。
版图寄生参数分析工具Empyrean ADA®可广泛应用于模拟/模拟数字混合设计版图寄生参数分析场景，帮助模拟IC前端以及后端设计人员快速地定位由于寄生参数引起的问题。
功率器件可靠性分析工具Empyrean Polas®提供了专注于Power IC设计的多种产品性能分析模块，高效支持了Power器件可靠性分析等应用。
晶体管级电源完整性分析工具Empyrean Patron®聚焦于模拟芯片的电源完整性检查，可高效地提供精准、全面、可靠的 EM/IR 分析数据及多种 EM/IR 检查报告。

 

物理验证工具
Empyrean Argus
随着设计规模的急剧增加和工艺复杂度的不断提高，物理验证所需时间也不断增长，高效的物理验证方案必不可少。模拟、传感器、存储、射频等IC设计存在大量复杂图形和特殊结构，对物理验证工具的精度和性能提出了新的挑战。
Empyrean Argus®是新一代纳米级芯片层次化并行物理验证工具。该工具根据不同设计类型版图的特点，如存储，传感器等设计中的大规模重复单元阵列，通过高性能版图预处理技术，缩短了大规模版图设计的验证时间；针对模拟版图设计中的各种复杂图形，通过高精度扫描线技术，对各类复杂图形做高精度的检查及器件提取，显著提升了用户检查和分析版图设计错误的效率，缩短了产品的设计周期。Empyrean Argus®可无缝集成到模拟电路原理图版图编辑工具Empyrean Aether®、版图集成与分析工具Empyrean Skipper®以及RC提取工具Empyrean RCExplorer®，并通过易用的Debug功能帮助版图设计工程师快速定位版图设计错误，加速验证过程并缩短产品开发周期。　　
Empyrean Argus®提供的物理验证解决方案可以消除设计错误，降低设计成本和减少设计失败的风险。目前工具已广泛应用于多家设计公司和晶圆代工厂，为用户提供Signoff级别的验证服务，成功完成流片数十亿颗。

版图集成与分析工具
Empyrean Skipper
随着工艺的发展及设计复杂度的增加，芯片集成度越来越高、规模也越来越大，有的大型芯片面积达到了400平方毫米以上，晶体管数目多达百亿门，芯片的版图数据也随之剧增。版图数据量的增加对版图工具的读取性能、版图数据集成、查询以及操作等都提出了更高的要求。在读取和分析先进工艺超大规模版图数据时，常规的版图查看和编辑工具已很难支撑。如何更高效地完成超大规模版图数据的读入、导出、检视、比较、分析和集成，是所有集成电路设计与制造厂商必须要面对的问题。
Empyrean Skipper®为用户提供了高效的一站式版图集成与分析解决方案，支持多种版图数据格式如GDS、GDS.gz、OASIS、LEF/DEF等。通过基于索引的版图数据并行读取技术、版图数据内存镜像技术和图形索引技术等，实现了超大规模版图的快速处理。
Empyrean Skipper®针对海量版图首次读取、二次读取和多人同时读取的不同应用场景，提供了不同的版图数据读取模式，显著提升了版图数据读取的性能；版图读入后，用户可在工具内对版图进行查看和信息查询。Empyrean Skipper®还支持了快速版图集成功能、批量版图数据处理功能、并行线网追踪功能、点到点电阻分析功能等，为高效的分析和处理超大规模版图数据提供了有力支撑，获得了用户的广泛认可。

先进封装设计EDA工具
华大九天在先进封装设计 EDA 工具领域新推出了先进封装自动布线工具Empyrean Storm®和先进封装物理验证工具Empyrean Argus® PKG两款工具。
先进封装自动布线工具Empyrean Storm®支持业界主流的先进封装硅基工艺和有机 RDL工艺，实现了多芯片间的大规模互联布线、高密度逃逸式布线以及大面积电源地平面布线等功能，大幅提升了先进封装版图设计效率，解决了先进封装设计流程中大规模版图布线效率低下的痛点问题，实现了先进封装布线自动化。
先进封装物理验证工具Empyrean Argus® PKG采用异形版图处理、容差处理、异构多芯片整合以及系统连接关系检查等关键核心技术，突破了传统物理验证工具在先进封装设计中面临的大规模伪错、校错效率低下等瓶颈问题，大幅提升了先进封装设计物理验证的精度和效率。

先进封装自动布线工具
Empyrean Storm
先进封装自动布线工具Empyrean Storm®，支持业界主流的先进封装硅基工艺和有机RDL工艺，支持多芯片之间的大规模互联布线，支持高密度逃逸式布线以及大面积电源地平面布线。用户可根据不同工艺，选择芯片式样的曼哈顿图形布线以及封装PCB式样的135度基板布线，大幅提升了用户设计效率，解决了传统封装设计流程中版图严重卡顿和布线效率低下的痛点问题。
Empyrean Storm®产品也具备基本封装版图设计及编辑功能，包含版图查看及编辑，层次化版图设计，多线程关键线网追踪, 短路及断路检查, 并且具备多个版图后处理特色功能，包含Dummy填充，Daisy Chain自动连接及分析，泪滴处理等。
此外，Empyrean Storm®和物理验证工具Empyrean Argus®无缝集成，支持对版图进行设计规则检查（DRC），进行网表及版图一致性检查（LVS），以保证版图的正确性，提供了后端版图设计验证所需的集成环境，满足先进封装设计用户在自动布线和物理验证的完整解决方案。

先进封装物理验证工具
Empyrean Argus PKG
随着设计规模的急剧增加和工艺复杂度的不断提高，物理验证所需时间也不断增长，高效的物理验证方案必不可少。模拟、传感器、存储、射频等IC设计存在大量复杂图形和特殊结构，对物理验证工具的精度和性能提出了新的挑战。
Empyrean Argus®是新一代纳米级芯片层次化并行物理验证工具。该工具根据不同设计类型版图的特点，如存储，传感器等设计中的大规模重复单元阵列，通过高性能版图预处理技术，缩短了大规模版图设计的验证时间；针对模拟版图设计中的各种复杂图形，通过高精度扫描线技术，对各类复杂图形做高精度的检查及器件提取，显著提升了用户检查和分析版图设计错误的效率，缩短了产品的设计周期。Empyrean Argus®可无缝集成到模拟电路原理图版图编辑工具Empyrean Aether®、版图集成与分析工具Empyrean Skipper®以及RC提取工具Empyrean RCExplorer®，并通过易用的Debug功能帮助版图设计工程师快速定位版图设计错误，加速验证过程并缩短产品开发周期。　　
Empyrean Argus®提供的物理验证解决方案可以消除设计错误，降低设计成本和减少设计失败的风险。目前工具已广泛应用于多家设计公司和晶圆代工厂，为用户提供Signoff级别的验证服务，成功完成流片数十亿颗。

 

参考文献链接

https://www.empyrean.com.cn/