2021年前总结

设计结构（理论）+  挖空（软件使用）+ 参数扫描sweep（软件使用）+ 导出画图

 

以上是依据掌握的程度进行的划分。

 

一、 设计结构（理论）

电介质 ----> X方向不对称（就是光源极化方向）

                    + Y方向对称

金属 ----> 使X方向不对称（没有fano峰，为了解决高FOM值引入不对称）

                 + Y方向对称

注：不对称可以引发fano峰，至于什么类型的fano峰，这就得看得出的结果分析了。

       引入不对称得出新的fano峰后，原来的fano峰高度、形状不变，只是会红蓝移动。（与折射率n的关系？下期补充）

 

二、 挖空（软件使用）

1. 位置

2. 选择etch刻蚀材料

这个材料的折射率n与背景折射率（FDTD）一致。

 

 

 

 

3. 创建etch材料

复制一份etch + 改变n

 

 

 

 

三、 参数扫描sweep（软件使用）

1. 新建扫描 

名字可以自己取。

 

 

2. 选择参数

设置参数之后，软件自己会复制出相应的份数。

 

 

四、 导出画图

 

导出，然后去origin操作（后面学）

 

这个比较不懂。。