摘要：
接上一篇介绍IC制造的基本过程，光刻的基本过程。这篇文章继续介绍光刻过程中的一些概念。 该系列文章的目录如下：[IC]Lithograph(0)半导体制造的基本过程[IC]Lithograph(1)光刻技术分析与展望[IC]Lithograph(2)光刻技术的分辨率与分辨率增强技术1. 光刻投影系统... 阅读全文
摘要：
文章主体转载自：1.zol摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望2.wiki：Extreme ultraviolet lithography3.ITRS 20121. 光刻技术组成和关键点 ● 光刻技术的组成与关键点 光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。主要组成部分如下：光源功率W波长$\lambda$光学透镜透射式透镜（248nm、193nm)反射式透镜（157nm）掩膜版由透光的衬底材料（石英玻璃）和不透光金属吸收层材料（主要是金属Cr）组成。通常要在表面淀积一层抗深紫外光损伤的增光型保护涂层 ... 阅读全文