版图专利的优势：
高新企业申请时，企业所持有的专利是最为重要的考虑因素。目前国家对于知识产权的分类分为两种，Ⅰ类和Ⅱ类。
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Ⅰ类包括发明专利（含国防专利）、植物新品种、国家级农作物品种、国家新药、国家一级中药保护品种、集成电路布图设计专有权；
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Ⅱ类包括实用新型专利、外观设计专利(非简单改变产品图案和形状的外观设计)、软件著作权（按Ⅱ类评价的知识产权在申请高新技术企业时，仅限使用一次。）
对于芯片设计企业来说，只要项目完成，就会有版图，版图是项目的最终结果。有鉴于此，版图是所有芯片企业最直接的申请专利的方式，有产品就有版图。
风险
目前版图专利与发明专利享受同等待遇，不过考虑到有一定的泄密风险，企业需要谨慎评估。鉴于现在版图拍照技术如此发达，如果竞争对手真的有意于了解版图，而且产品已经上市，那么也不是太难的事情。
申请范例
将设计好的芯片版图或者IP版图，按照每一层进行分层归档，需要注意的是，对每一层有一个描述，以便审批人了解每一层的作用。
以下是一个版图专利的范例，仅供参考。
