摘要：
0.光刻工艺目的 利用光刻胶在wafer表面做一层辅助图形，在刻蚀或离子注入工艺中为不需要刻蚀的区域起到保护作用。 1.光刻工艺主要流程 1.1 涂敷光刻胶 光刻胶（光阻）是一种感光物质，其作用是将 Pattern 从光罩上传递到Wafer上的一种介质，又分为正光阻和负光阻。 一般采用旋涂的方式将光 阅读全文
2023年3月9日
2023年3月9日
