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摘要：0.光刻工艺目的 利用光刻胶在wafer表面做一层辅助图形，在刻蚀或离子注入工艺中为不需要刻蚀的区域起到保护作用。 1.光刻工艺主要流程 1.1 涂敷光刻胶 光刻胶（光阻）是一种感光物质，其作用是将 Pattern 从光罩上传递到Wafer上的一种介质，又分为正光阻和负光阻。 一般采用旋涂的方式将光 阅读全文

摘要：半导体科学有多个分支学科，包含丰富的理论和技术知识。 半导体材料是半导体科学的分支之一，是半导体科学发展的物质基础。 量子力学提出的能带概念大大推动了半导体材料的发展，固体能带论揭示了半导体的本质。 0.半导体定义 电阻率介于导体和绝缘体之间的物质。 1.能带理论 原子核的核外电子按照能级排布（E1 阅读全文